R025先進薄膜界面機能創成委員会 独立行政法人日本学術振興会・産学協力委員会

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第2回拡大企画委員会・フォーラム

日程

2021年12月15日（水）14:00-17:00　第２回拡大企画委員会
2021年12月16日（木）  9:00-17:00　フォーラム

開催方法・開催場所

＜ハイブリッド開催＞

資料

こちら からダウンロード頂けます。（随時更新致します。）

スケジュール

2021年12月15日（水）　第２回拡大企画委員会

14:00-16:00　第１部　各WGでの議論（ブレークアウトルームにお入りください）
16:00-17:00　第２部　拡大企画会議

2021年12月16日（木）　フォーラム

＜概要＞
若手技術者・若手研究者の育成を目的に、中長期的な視点や潜在的な市場及び技術調査、そして我が国を取り巻く業界の経済動向といったより幅の広い視野や世代を超えた議論の場を提供するフォーラム。2021年度は”半導体”をキーワードに構成しました。研究開発において重要な役割を果たした基幹技術を振り返るだけでなく、経済的動向として35年ほど前の日米半導体摩擦を回顧し、昨今の半導体不足を踏まえて、今後の業界の展開を講演していただく予定です。更に、本年4月に逝去された赤崎勇先生を偲ぶセッションを設け、関係深い講演者の方々から先生の業績を浮き彫りにして頂く企画も用意しています。

9:00～9:05　　　  はじめに（5分）
　　　　　　　　  田畑 仁（東京大学）
9:05～9:10　　　  本日の企画について（5分）
　　　　　　　　 塩島 謙次（福井大学）

追悼講演　“青色と赤崎先生に魅入られた4人は技術を創る”

9:10-10:00 (50分)   天野 浩（名古屋大学未来材料・システム研究所）
　　　　　　　　「フロンティアエレクトロニクスの社会実装に向けた取り組み」
10:00-10:40 (40分) 小出 康夫（物質・材料研究機構 特命研究員／センター長）
　　　　　　　　「赤崎先生の薫陶を受けて―結晶成長からデバイス開発まで―」

10:40-10:45　　　 休憩

10:45-11:25 (40分) 名西 憓之（立命館大学）
　　　　　　　　「赤﨑先生のご指導に感謝して ｰ化合物半導体の研究開発を振り返るｰ（仮題）」
11:25-12:05 (40分) 澤木 宣彦（愛知工業大学）
　　　　　　　　「基礎研究と応用研究 ｰ名古屋大学赤﨑研究室のGaN研究を例にｰ （仮題）」

12:05-13:30　　　 昼休憩（感染症対策のため、お弁当の提供はありません。）

–“半導体産業の栄枯盛衰”–

13:30-14:20 (50分) 和田木 哲哉（野村証券）
　　　　　　　　「半導体/製造装置業界は新たな繁栄の時代に入った
　　　　　　　　　　　～半導体不足と半導体安保の背景にあるもの～」
14:20-15:10 (50分) 近藤 敏（新金属協会）
　　　　　　　　「半導体用シリコン素材産業の現状と課題」

15:10-15:20　　　 休憩

–“半導体の基幹技術を振り返る”–

15:20-15:40 (20分)  平木 昭夫（大阪大学）
　　　　　　　　「Si IC技術の黎明と界面（コンタクトSi／コンタクト金属）制御
　　　　　　　　　ｰ何故、我が国の技術は”頂点”を極めて、”衰退”したか？　そして”未来”は？？」
15:40-16:00 (20分)  鳥海 明（東京大学）
　　　　　　　　「材料・プロセス・デバイス技術から見たSi-ULSIの基幹技術」
16:00-16:20 (20分)  上田 修（明治大学）
　　　　　　　　「40余年にわたる化合物半導体発光デバイスの材料（欠陥）評価と信頼性解析のあゆみ」
16:20-16:40 (20分)  松波 弘之（京都大学）
　　　　　　　　「研磨材SiCからパワー半導体最前線までの53年」
16:40-17:00 (20分)  望月 康則（NECフェロー）
　　　　　　　　「企業での半導体物性研究：よかったこと、苦労したこと」

フォーラム担当、問い合わせ先
R025先進薄膜界面機能創成委員会　企画幹事長
塩島 謙次
E-mail: shiojima@u-fukui.ac.jp
Tel: 0776-27-8560