R025先進薄膜界面機能創成委員会 独立行政法人日本学術振興会・産学協力委員会

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第4回委員会・第3回研究会「マイクロLED技術の現状と課題、最先端薄膜技術」

2021年4月23日(火)開催

委員会・研究会資料

こちら よりご覧頂けます。

第4回委員会                            

<議題>

  • 前回議事録確認
  • 第5回委員会・第4回研究会について
  • 第6回委員会・第5回研究会について
  • 研究会等開催方法アンケートの結果
  • リトリート学習会アンケート集計結果
  • 赤崎勇先生を偲ぶ研究会に関して
  • その他

第3回研究会: 「マイクロLED技術の現状と課題、最先端薄膜技術」

次世代の省エネルギー・高精細ディスプレイとして注目を集めているマイクロLEDについて製品開発動向の現状と課題、さらに、次世代マイクロLEDを支える最先端薄膜技術について多角的に議論する研究会を企画しました。

<プログラム>

13:00-13:05  挨拶 田畑 仁(東京大学, 委員長)
13:05-13:10  本日の企画について(担当企画委員)
13:10-14:10  田中 直樹(日経BP社)
      「30年に一度のディスプレイ革新、マイクロLEDの現状と課題」
14:10-14:50  岸野 克巳(上智大学)
      「GaNナノコラムLEDの研究の進展と今後への期待」
14:50-15:30  川上 養一(京都大学)
      「窒化物半導体光シンセサイザー実現へのアプローチ」

15:30-15:50 休憩

15:50-16:30  藤岡 洋(東京大学)
      「高In組成InGaNの成膜とフルカラーモノリシックLEDへの展開」
16:30-17:10  藤原 康文(大阪大学)
      「小型・超高精細マイクロLEDディスプレイに資する
       Eu添加GaN赤色LEDの新展開」

17:10-17:20  おわりに(担当企画委員)